基座和包括其的化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110399545.0

申请日：

2011-11-24

公开(公告)号：

CN102605347A

公开(公告)日：

2012-07-25

发明(设计)人：

韩炅燉

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

C23C16455

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

韩明星

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101725087422 IPC(主分类):C23C 16/458 专利申请号:2011103995450 申请公布日:20120725
2012-12-26	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101488977217 IPC(主分类):C23C 16/458 专利申请号:2011103995450 变更事项:申请人变更前权利人:三星LED株式会社变更后权利人:三星电子株式会社变更事项:地址变更前权利人:韩国京畿道水原市变更后权利人:韩国京畿道水原市登记生效日:20121122
2012-07-25	公开	公开
2013-12-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101550738528 IPC(主分类):C23C 16/458 专利申请号:2011103995450 申请日:20111124

共 50 条

[1]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

代宇通 ;

姜勇 ;

郭世平 .

中国专利 :CN222139265U ,2024-12-10

[2]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

姜勇 ;

胡建正 ;

郭世平 .

中国专利 :CN120138611A ,2025-06-13

[3]

基座、化学气相沉积设备和基板加热方法 [P].

李焘英 ;

林珍永 ;

韩尚宪 ;

金起成 ;

金荣善 ;

金晟泰 .

中国专利 :CN102534562A ,2012-07-04

[4]

用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备 [P].

麻鹏达 ;

薛运周 ;

鲁天豪 .

中国专利 :CN117512572A ,2024-02-06

[5]

化学气相沉积设备和化学气相沉积设备的制作方法 [P].

张添水 .

中国专利 :CN117646188A ,2024-03-05

[6]

化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P].

董志清 .

中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14

[7]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[8]

化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备 [P].

卢山 ;

陈神星 ;

姜鼎 ;

黄荣 .

中国专利 :CN216473473U ,2022-05-10

[9]

化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备 [P].

沈建飞 ;

徐皓 ;

潘雯海 ;

胡小栋 .

中国专利 :CN101994100A ,2011-03-30

[10]

基座以及包括该基座的化学气相沉积装置 [P].

金宁基 ;

郑镐壹 ;

高宗万 ;

韩成日 .

中国专利 :CN102286732A ,2011-12-21

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