化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110120569.8

申请日：

2011-05-10

公开(公告)号：

CN102776488B

公开(公告)日：

2012-11-14

发明(设计)人：

董志清

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C1652

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

张大威

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更事项:专利权人变更前:北京北方华创微电子装备有限公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号变更后:100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号
2013-01-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101375922506 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2011101205698 申请日:20110510
2014-08-27	授权	授权
2017-10-27	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号变更后:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
2012-11-14	公开	公开

共 50 条

[1]

反应腔及具有其的化学气相沉积设备 [P].

徐亚伟 .

中国专利 :CN102732860B ,2012-10-17

[2]

反应腔及化学气相沉积设备 [P].

李瑞 ;

许燚南 .

中国专利 :CN223620469U ,2025-12-02

[3]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[4]

反应腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨盟 .

中国专利 :CN101921995B ,2010-12-22

[5]

化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备 [P].

卢山 ;

陈神星 ;

姜鼎 ;

黄荣 .

中国专利 :CN216473473U ,2022-05-10

[6]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324A ,2021-01-05

[7]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08

[8]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324B ,2025-03-25

[9]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[10]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN103074602A ,2013-05-01

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