化学气相沉积反应腔

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011165028.2

申请日：

2020-10-27

公开(公告)号：

CN112176324B

公开(公告)日：

2025-03-25

发明(设计)人：

吴铭钦刘峰

申请人：

苏州雨竹机电有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧

IPC主分类号：

C23C16/46

IPC分类号：

C23C16/458 C23C16/44

代理机构：

北京高沃律师事务所 11569

代理人：

王富强

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-25	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324A ,2021-01-05

[2]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08

[3]

反应腔及化学气相沉积装置 [P].

汪洋 ;

万强 ;

柴攀 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN110359030A ,2019-10-22

[4]

化学气相沉积反应腔结构 [P].

李家浩 ;

季加伟 ;

黄春立 ;

朱建华 .

中国专利 :CN222770954U ,2025-04-18

[5]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[6]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN103074602A ,2013-05-01

[7]

反应腔及化学气相沉积设备 [P].

李瑞 ;

许燚南 .

中国专利 :CN223620469U ,2025-12-02

[8]

反应腔及化学气相沉积装置 [P].

汪洋 ;

万强 ;

柴攀 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN110359033A ,2019-10-22

[9]

化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P].

董志清 .

中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14

[10]

反应腔室以及化学气相沉积设备 [P].

顾武强 ;

潘琦 .

中国专利 :CN104878367A ,2015-09-02

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