化学气相沉积反应腔

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011165028.2
申请日
2020-10-27
公开(公告)号
CN112176324A
公开(公告)日
2021-01-05
发明(设计)人
吴铭钦 刘峰
申请人
申请人地址
215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧
IPC主分类号
C23C1646
IPC分类号
C23C16458 C23C1644
代理机构
北京高沃律师事务所 11569
代理人
王富强
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
化学气相沉积反应腔 [P]. 
吴铭钦 ;
刘峰 .
中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08
[2]
化学气相沉积反应腔 [P]. 
吴铭钦 ;
刘峰 .
中国专利 :CN112176324B ,2025-03-25
[3]
反应腔及化学气相沉积装置 [P]. 
汪洋 ;
万强 ;
柴攀 ;
其他发明人请求不公开姓名 .
中国专利 :CN110359030A ,2019-10-22
[4]
化学气相沉积反应腔结构 [P]. 
李家浩 ;
季加伟 ;
黄春立 ;
朱建华 .
中国专利 :CN222770954U ,2025-04-18
[5]
化学气相沉积设备的反应腔室 [P]. 
梁秉文 .
中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26
[6]
化学气相沉积设备的反应腔室 [P]. 
梁秉文 .
中国专利 :CN103074602A ,2013-05-01
[7]
反应腔及化学气相沉积设备 [P]. 
李瑞 ;
许燚南 .
中国专利 :CN223620469U ,2025-12-02
[8]
反应腔及化学气相沉积装置 [P]. 
汪洋 ;
万强 ;
柴攀 ;
其他发明人请求不公开姓名 .
中国专利 :CN110359033A ,2019-10-22
[9]
化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P]. 
董志清 .
中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14
[10]
反应腔室以及化学气相沉积设备 [P]. 
顾武强 ;
潘琦 .
中国专利 :CN104878367A ,2015-09-02