反应腔及化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811167897.1

申请日：

2018-10-08

公开(公告)号：

CN110359030A

公开(公告)日：

2019-10-22

发明(设计)人：

汪洋万强柴攀其他发明人请求不公开姓名

申请人：

申请人地址：

412000 湖南省株洲市天元区中国动力谷自主创新园(研发中心C栋2楼202号)

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414

代理人：

张全文

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-22	公开	公开
2019-11-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20181008

共 50 条

[1]

反应腔及化学气相沉积装置 [P].

汪洋 ;

万强 ;

柴攀 ;

其他发明人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN110359033A ,2019-10-22

[2]

一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置 [P].

张森 ;

王祥 ;

费磊 .

中国专利 :CN114016003B ,2024-01-09

[3]

一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置 [P].

张森 ;

王祥 ;

费磊 .

中国专利 :CN114016003A ,2022-02-08

[4]

一种化学气相沉积装置的反应腔室及化学气相沉积装置 [P].

张森 ;

于大洋 ;

费磊 ;

李世敏 ;

郭付成 .

中国专利 :CN114164414B ,2022-03-11

[5]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[6]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324A ,2021-01-05

[7]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08

[8]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324B ,2025-03-25

[9]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[10]

化学气相沉积炉及化学气相沉积装置 [P].

杨竣焜 .

中国专利 :CN120575152A ,2025-09-02

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