反应腔室以及化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510309138.4

申请日：

2015-06-07

公开(公告)号：

CN104878367A

公开(公告)日：

2015-09-02

发明(设计)人：

顾武强潘琦

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101627834180 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2015103091384 申请日:20150607
2019-04-12	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 16/44 申请公布日:20150902
2015-09-02	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[2]

反应腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨盟 .

中国专利 :CN101921995B ,2010-12-22

[3]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN103074602A ,2013-05-01

[4]

反应腔及化学气相沉积设备 [P].

李瑞 ;

许燚南 .

中国专利 :CN223620469U ,2025-12-02

[5]

金属化学气相沉积设备及其反应腔室 [P].

何丽 .

中国专利 :CN103572255A ,2014-02-12

[6]

一种反应腔以及化学气相沉积设备 [P].

李家浩 .

中国专利 :CN222948471U ,2025-06-06

[7]

工艺腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨晓亮 ;

公茂江 ;

杜罡 .

中国专利 :CN222990213U ,2025-06-17

[8]

一种化学气相沉积设备及其反应腔室 [P].

檀长兵 .

中国专利 :CN108517512A ,2018-09-11

[9]

化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P].

董志清 .

中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14

[10]

腔室防护装置及化学气相沉积设备 [P].

黄领务 ;

车东壹 ;

李东昊 ;

金洙千 ;

金官希 ;

宋秀静 ;

河南 ;

李吉荣 ;

李俊范 ;

柳相晩 ;

梁熙哲 ;

吉炯昱 .

韩国专利 :CN118272794A ,2024-07-02

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