化学气相沉积设备的反应腔室

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210019424.3

申请日：

2012-01-21

公开(公告)号：

CN103074602A

公开(公告)日：

2013-05-01

发明(设计)人：

梁秉文

申请人：

申请人地址：

314300 浙江省嘉兴市海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

郑玮

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101464962973 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2012100194243 申请日:20120121
2016-05-25	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101733005802 IPC(主分类):C23C 16/455 专利申请号:2012100194243 申请公布日:20130501
2013-05-01	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备的反应腔室 [P].

梁秉文 .

中国专利 :CN202450155U ,2012-09-26

[2]

反应腔室以及化学气相沉积设备 [P].

顾武强 ;

潘琦 .

中国专利 :CN104878367A ,2015-09-02

[3]

反应腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨盟 .

中国专利 :CN101921995B ,2010-12-22

[4]

反应腔及化学气相沉积设备 [P].

李瑞 ;

许燚南 .

中国专利 :CN223620469U ,2025-12-02

[5]

金属化学气相沉积设备及其反应腔室 [P].

何丽 .

中国专利 :CN103572255A ,2014-02-12

[6]

化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P].

董志清 .

中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14

[7]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324A ,2021-01-05

[8]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN213388891U ,2021-06-08

[9]

化学气相沉积反应腔 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112176324B ,2025-03-25

[10]

工艺腔室及化学气相沉积设备 [P].

杨晓亮 ;

公茂江 ;

杜罡 .

中国专利 :CN222990213U ,2025-06-17

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