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栅极绝缘膜、感放射线性组合物、硬化膜、半导体元件、半导体元件的制造方法及显示装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410087908.0
申请日
:
2014-03-11
公开(公告)号
:
CN104049464B
公开(公告)日
:
2014-09-17
发明(设计)人
:
一戸大吾
滨田谦一
申请人
:
申请人地址
:
日本东京港区东新桥一丁目9番2号
IPC主分类号
:
G03F7075
IPC分类号
:
H01L21312
H01L5150
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
臧建明
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-02-17
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101646878586 IPC(主分类):G03F 7/075 专利申请号:2014100879080 申请日:20140311
2020-10-30
授权
授权
2014-09-17
公开
公开
共 50 条
[1]
感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件
[P].
本田晃久
论文数:
0
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0
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本田晃久
;
中西拓也
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中西拓也
;
仓田亮平
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仓田亮平
;
吉田智香
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吉田智香
;
三村时生
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三村时生
;
八代隆郎
论文数:
0
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0
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0
八代隆郎
.
中国专利
:CN113589647A
,2021-11-02
[2]
感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件
[P].
蛸岛薫
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0
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
蛸岛薫
;
三村时生
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0
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0
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0
机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
三村时生
.
日本专利
:CN119065201A
,2024-12-03
[3]
感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件
[P].
成子朗人
论文数:
0
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0
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0
机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
成子朗人
.
日本专利
:CN118818897A
,2024-10-22
[4]
感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件、显示元件以及聚合物
[P].
中西拓也
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0
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中西拓也
;
浅冈高英
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浅冈高英
;
成子朗人
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0
成子朗人
.
中国专利
:CN113552769A
,2021-10-26
[5]
感放射线性树脂组合物、半导体元件、显示装置、硬化膜及其制造方法
[P].
成子朗人
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成子朗人
;
浅冈高英
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浅冈高英
;
松本晃幸
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松本晃幸
;
工藤和生
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0
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工藤和生
.
中国专利
:CN109581812A
,2019-04-05
[6]
感放射线性树脂组合物、半导体元件、显示装置、硬化膜及其制造方法
[P].
成子朗人
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成子朗人
;
浅冈高英
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0
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浅冈高英
;
松本晃幸
论文数:
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松本晃幸
.
中国专利
:CN109581811A
,2019-04-05
[7]
感放射线性组合物、硬化膜及显示元件
[P].
工藤和生
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0
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0
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
工藤和生
;
吉泽满代
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
吉泽满代
;
大沼友希
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
大沼友希
;
成子朗人
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0
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0
机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
成子朗人
.
日本专利
:CN110286561B
,2025-06-03
[8]
感放射线性组合物、硬化膜及显示元件
[P].
工藤和生
论文数:
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工藤和生
;
吉泽满代
论文数:
0
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吉泽满代
;
大沼友希
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大沼友希
;
成子朗人
论文数:
0
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0
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0
成子朗人
.
中国专利
:CN110286561A
,2019-09-27
[9]
感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件
[P].
工藤和生
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0
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工藤和生
;
成子朗人
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0
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成子朗人
;
松本晃幸
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0
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松本晃幸
.
中国专利
:CN110794648A
,2020-02-14
[10]
感放射线性组合物、硬化膜、显示元件、及硬化膜的制造方法
[P].
角田裕志
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
角田裕志
;
成子朗人
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
成子朗人
;
本田晃久
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
本田晃久
;
仓田亮平
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机构:
JSR株式会社
JSR株式会社
仓田亮平
.
日本专利
:CN120353097A
,2025-07-22
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