感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410693391.3

申请日：

2024-05-31

公开(公告)号：

CN119065201A

公开(公告)日：

2024-12-03

发明(设计)人：

蛸岛薫三村时生

申请人：

JSR株式会社

申请人地址：

日本东京港区东新桥一丁目9番2号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/09

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

马爽;臧建明

法律状态：

著录事项变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-22	著录事项变更	著录事项变更IPC(主分类):G03F 7/004变更事项:申请人变更前:JICC-02株式会社变更后:JSR株式会社变更事项:国家或地区变更前:日本变更后:日本变更事项:地址变更前:日本东京港区东新桥一丁目9番2号变更后:日本东京港区东新桥一丁目9番2号
2024-12-03	公开	公开
2025-04-22	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移IPC(主分类):G03F 7/004登记生效日:20250407变更事项:申请人变更前权利人:JSR株式会社变更后权利人:JICC-02株式会社变更事项:国家或地区变更前权利人:日本变更后权利人:日本变更事项:地址变更前权利人:日本东京港区东新桥一丁目9番2号变更后权利人:日本东京港区东新桥一丁目9番2号

共 50 条

[1]

感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件 [P].

成子朗人 .

日本专利 :CN118818897A ,2024-10-22

[2]

感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件、显示元件以及聚合物 [P].

中西拓也 ;

浅冈高英 ;

成子朗人 .

中国专利 :CN113552769A ,2021-10-26

[3]

感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件 [P].

本田晃久 ;

中西拓也 ;

仓田亮平 ;

吉田智香 ;

三村时生 ;

八代隆郎 .

中国专利 :CN113589647A ,2021-11-02

[4]

感放射线性组合物、硬化膜、显示元件、及硬化膜的制造方法 [P].

角田裕志 ;

成子朗人 ;

本田晃久 ;

仓田亮平 .

日本专利 :CN120353097A ,2025-07-22

[5]

感放射线性组合物、硬化膜及显示元件 [P].

工藤和生 ;

吉泽满代 ;

大沼友希 ;

成子朗人 .

日本专利 :CN110286561B ,2025-06-03

[6]

感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件 [P].

工藤和生 ;

成子朗人 ;

松本晃幸 .

中国专利 :CN110794648A ,2020-02-14

[7]

感放射线性组合物、硬化膜及显示元件 [P].

工藤和生 ;

吉泽满代 ;

大沼友希 ;

成子朗人 .

中国专利 :CN110286561A ,2019-09-27

[8]

感放射线性组合物、硬化膜、硬化膜的制造方法及显示元件 [P].

工藤和生 ;

成子朗人 ;

松本晃幸 .

日本专利 :CN110794648B ,2024-08-27

[9]

栅极绝缘膜、感放射线性组合物、硬化膜、半导体元件、半导体元件的制造方法及显示装置 [P].

一戸大吾 ;

滨田谦一 .

中国专利 :CN104049464B ,2014-09-17

[10]

感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、显示元件及显示装置 [P].

松本晃幸 ;

浅冈高英 ;

成子朗人 .

中国专利 :CN110320746A ,2019-10-11

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