光刻胶的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610147868.X

申请日：

2006-12-25

公开(公告)号：

CN101211125A

公开(公告)日：

2008-07-02

发明(设计)人：

郭佳衢刘焕新

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F736

IPC分类号：

G03F742 G03F726

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

逯长明

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-12-28	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101254314050 IPC(主分类):G03F 7/36 专利号:ZL200610147868X 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20111118
2008-07-02	公开	公开
2010-08-11	授权	授权
2008-08-27	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

刘骁兵 ;

刘志强 .

中国专利 :CN103972055B ,2014-08-06

[2]

光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法 [P].

张凇铭 ;

惠世鹏 ;

刘效岩 .

中国专利 :CN111610698A ,2020-09-01

[3]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[4]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[5]

光刻胶的去除方法 [P].

李俊良 .

中国专利 :CN102768476A ,2012-11-07

[6]

光刻胶去除方法 [P].

李丹 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN108281356B ,2018-07-13

[7]

光刻胶去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

李程 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN104391434A ,2015-03-04

[8]

光刻胶去除方法 [P].

南兑浩 ;

李大烨 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

周娜 .

中国专利 :CN114764219A ,2022-07-19

[9]

光刻胶的去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN103646873A ,2014-03-19

[10]

光刻胶的去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

杨平 ;

刘志强 .

中国专利 :CN102610511A ,2012-07-25

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