光刻胶去除方法

被引：0

申请号：

CN202110057909.0

申请日：

2021-01-15

公开(公告)号：

CN114764219A

公开(公告)日：

2022-07-19

发明(设计)人：

南兑浩李大烨丁明正贺晓彬刘强刘金彪周娜

申请人：

申请人地址：

100029 北京市朝阳区北土城西路3号

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

北京辰权知识产权代理有限公司 11619

代理人：

金铭

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-19	公开	公开
2022-08-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20210115

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[2]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[3]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[4]

光刻胶的去除方法 [P].

李俊良 .

中国专利 :CN102768476A ,2012-11-07

[5]

光刻胶的去除方法 [P].

高腾飞 ;

荆泉 ;

孙建 ;

吕煜坤 ;

张旭昇 .

中国专利 :CN102968003A ,2013-03-13

[6]

光刻胶的去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

杨平 ;

刘志强 .

中国专利 :CN102610511A ,2012-07-25

[7]

光刻胶去除方法 [P].

李丹 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN108281356B ,2018-07-13

[8]

光刻胶去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

李程 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN104391434A ,2015-03-04

[9]

光刻胶去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

刘骁兵 ;

刘志强 .

中国专利 :CN103972055B ,2014-08-06

[10]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

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