光刻胶去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910628837.3

申请日：

2019-07-12

公开(公告)号：

CN110716399A

公开(公告)日：

2020-01-21

发明(设计)人：

萧忠仁陈雅萍林建宏刘文斌陈志文

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

谢强;黄艳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-21	公开	公开
2020-02-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20190712

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[2]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[3]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[4]

光刻胶的去除方法 [P].

杨峰 ;

谭宗良 .

中国专利 :CN102082089A ,2011-06-01

[5]

光刻胶的去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN103646873A ,2014-03-19

[6]

光刻胶的去除方法 [P].

肖玉洁 ;

朱旋 ;

谢宝强 ;

杨兆宇 .

中国专利 :CN102073227A ,2011-05-25

[7]

光刻胶的去除方法 [P].

刘佑铭 .

中国专利 :CN101354542A ,2009-01-28

[8]

光刻胶去除方法 [P].

李丹 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN108281356B ,2018-07-13

[9]

光刻胶去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

李程 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN104391434A ,2015-03-04

[10]

光刻胶去除方法 [P].

南兑浩 ;

李大烨 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

周娜 .

中国专利 :CN114764219A ,2022-07-19

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