光刻胶的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910241611.4

申请日：

2009-11-27

公开(公告)号：

CN102082089A

公开(公告)日：

2011-06-01

发明(设计)人：

杨峰谭宗良

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层

IPC主分类号：

H01L213105

IPC分类号：

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法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-07-17	授权	授权
2011-06-01	公开	公开
2011-07-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101088327580 IPC(主分类):H01L 21/3105 专利申请号:2009102416114 申请日:20091127
2018-08-24	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/3105 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层变更后:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[2]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[3]

光刻胶的去除方法 [P].

肖玉洁 ;

朱旋 ;

谢宝强 ;

杨兆宇 .

中国专利 :CN102073227A ,2011-05-25

[4]

光刻胶的去除方法及光刻工艺的返工方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101281379A ,2008-10-08

[5]

去除光掩模光刻胶的方法 [P].

金海涛 ;

徐飞 ;

吉保国 ;

王夏 .

中国专利 :CN102253608B ,2011-11-23

[6]

去除光刻胶层的方法 [P].

吴杰 ;

唐在峰 ;

吴智勇 .

中国专利 :CN109065450A ,2018-12-21

[7]

去除光刻胶残留的方法 [P].

韩秋华 ;

马擎天 .

中国专利 :CN101587833A ,2009-11-25

[8]

光刻胶的去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN103646873A ,2014-03-19

[9]

光刻胶的去除方法 [P].

高腾飞 ;

荆泉 ;

孙建 ;

吕煜坤 ;

张旭昇 .

中国专利 :CN102968003A ,2013-03-13

[10]

光刻胶的去除方法 [P].

刘佑铭 .

中国专利 :CN101354542A ,2009-01-28

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