光刻胶的去除方法

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专利类型
发明
申请号
CN200910246311.5
申请日
2009-11-25
公开(公告)号
CN102073227A
公开(公告)日
2011-05-25
发明(设计)人
肖玉洁 朱旋 谢宝强 杨兆宇
申请人
申请人地址
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号
IPC主分类号
G03F742
IPC分类号
H01L21311
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
李丽
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
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谭宗良 .
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光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P]. 
邱靖尧 ;
谢玟茜 ;
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去除光刻胶残留的方法 [P]. 
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[5]
光刻胶的去除方法 [P]. 
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杨渝书 .
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[6]
光刻胶的去除方法 [P]. 
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荆泉 ;
孙建 ;
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[7]
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