光刻胶去除方法及光刻胶重制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910908698.X

申请日：

2019-09-25

公开(公告)号：

CN110581065A

公开(公告)日：

2019-12-17

发明(设计)人：

邱靖尧谢玟茜刘立尧胡展源

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F742

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

张彦敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20190925
2019-12-17	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[2]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[3]

光刻胶的去除方法 [P].

杨峰 ;

谭宗良 .

中国专利 :CN102082089A ,2011-06-01

[4]

光刻胶去除方法 [P].

李丹 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN108281356B ,2018-07-13

[5]

光刻胶去除方法 [P].

南兑浩 ;

李大烨 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

周娜 .

中国专利 :CN114764219A ,2022-07-19

[6]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[7]

光刻胶去除腔的清洗方法 [P].

张硕 ;

吴长明 ;

冯大贵 ;

余鹏 ;

孙建 ;

李先宏 ;

尚柯 .

中国专利 :CN115407623A ,2022-11-29

[8]

光刻胶去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

李程 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN104391434A ,2015-03-04

[9]

光刻胶去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

刘骁兵 ;

刘志强 .

中国专利 :CN103972055B ,2014-08-06

[10]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

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