化学机械抛光用的化学改性抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680027886.2

申请日：

2006-07-13

公开(公告)号：

CN101232970A

公开(公告)日：

2008-07-30

发明(设计)人：

Y·李 S·D·希尔林 J·凯勒赫尔 T·张

申请人：

申请人地址：

美国俄亥俄州

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24D334 B24D312 H01L21321 H01L21306

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

龙传红

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-09-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-07-30	公开	公开
2010-08-18	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101004077494 IPC(主分类):B24B 37/04 专利申请号:2006800278862 公开日:20080730

共 50 条

[1]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[2]

用于化学机械抛光的抛光垫及应用其的化学机械抛光方法 [P].

陈俊甫 ;

洪永泰 ;

苏金达 ;

陈光钊 .

中国专利 :CN101352844A ,2009-01-28

[3]

化学机械抛光用抛光垫的制备方法 [P].

陈平 ;

李俊燕 ;

康仁科 .

中国专利 :CN1739915A ,2006-03-01

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[5]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[6]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[7]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[8]

化学机械抛光垫 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN209466099U ,2019-10-08

[9]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[10]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

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