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曝光剂量修正方法和设备、存储介质及X-射线医疗系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201810418852.0
申请日：
2018-05-04
公开(公告)号：
CN110432917A
公开(公告)日：
2019-11-12
发明(设计)人：
赫伟
杨智明
申请人：
申请人地址：
201318 上海市浦东新区周祝公路278号
IPC主分类号：
A61B600
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-11-12 | 公开 | 公开 |
| 2019-12-06 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20180504 |