共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
X-射线曝光区域调节方法、存储介质和X-射线系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710358487.4
申请日：
2017-05-19
公开(公告)号：
CN108937975A
公开(公告)日：
2018-12-07
发明(设计)人：
赫伟
申请人：
申请人地址：
201318 上海市浦东新区周祝公路278号
IPC主分类号：
A61B600
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-01-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20170519 |
| 2018-12-07 | 公开 | 公开 |