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低折射率组合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200780029148.6
申请日
:
2007-08-03
公开(公告)号
:
CN101501130A
公开(公告)日
:
2009-08-05
发明(设计)人
:
K·考塔基斯
M·R·麦克基弗
P·G·贝基亚里安
S·苏布拉莫尼
M·佩特鲁西-萨米贾
申请人
:
申请人地址
:
美国特拉华州
IPC主分类号
:
C08L2712
IPC分类号
:
C08L2716
C08K1302
C08K1304
C08J518
G02B111
C08K336
C08K5103
C08K55415
C08K718
C08K726
C08K906
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司
代理人
:
段晓玲;韦欣华
法律状态
:
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-08-11
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101003968810 IPC(主分类):C08L 27/12 专利申请号:2007800291486 公开日:20090805
2009-08-05
公开
公开
共 50 条
[1]
低折射率组合物
[P].
K·库尔塔基斯
论文数:
0
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K·库尔塔基斯
;
M·R·麦基弗
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M·R·麦基弗
;
P·G·贝基亚里安
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P·G·贝基亚里安
;
S·苏布拉莫尼
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S·苏布拉莫尼
;
M·佩特鲁奇-萨米亚
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M·佩特鲁奇-萨米亚
.
中国专利
:CN101501118A
,2009-08-05
[2]
低折射率涂层组合物
[P].
J·E·索思韦尔
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J·E·索思韦尔
;
C·P·哈瓦拉
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C·P·哈瓦拉
.
中国专利
:CN1965041A
,2007-05-16
[3]
低折射率涂层组合物
[P].
S·A·布拉茨拉夫斯基
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S·A·布拉茨拉夫斯基
;
T·E·毕晓普
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T·E·毕晓普
;
J·E·索思韦尔
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J·E·索思韦尔
.
中国专利
:CN1946818A
,2007-04-11
[4]
低折射率膜形成用液体组合物
[P].
日向野怜子
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日向野怜子
;
山崎和彦
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山崎和彦
;
米泽岳洋
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米泽岳洋
.
中国专利
:CN107207907B
,2017-09-26
[5]
低折射率膜形成用组合物
[P].
加藤拓
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加藤拓
;
岛田惠
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岛田惠
;
中岛诚
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中岛诚
.
中国专利
:CN104080869B
,2014-10-01
[6]
低折射率膜形成用组合物及用其形成低折射率膜的方法
[P].
日向野怜子
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日向野怜子
;
山崎和彦
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山崎和彦
.
中国专利
:CN103468032B
,2013-12-25
[7]
用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜
[P].
赵振海
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赵振海
;
魏斯毅
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魏斯毅
;
尾崎雅树
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尾崎雅树
.
中国专利
:CN102634277A
,2012-08-15
[8]
低折射率膜形成用液体组合物及使用该组合物的低折射率膜的形成方法
[P].
日向野怜子
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日向野怜子
;
山崎和彦
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山崎和彦
.
中国专利
:CN110291165A
,2019-09-27
[9]
低折射率膜形成用固化性组合物、低折射率膜、光学器件及低折射率膜的制造方法
[P].
青山洋平
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
青山洋平
;
昆野健理
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
昆野健理
;
森莉纱子
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
森莉纱子
.
日本专利
:CN119472166A
,2025-02-18
[10]
低折射率膜形成用组合物及其制法、低折射率膜的形成法
[P].
日向野怜子
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日向野怜子
;
山崎和彦
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0
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山崎和彦
.
中国专利
:CN105273622B
,2016-01-27
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