低折射率膜形成用组合物及用其形成低折射率膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310221351.0

申请日：

2013-06-05

公开(公告)号：

CN103468032B

公开(公告)日：

2013-12-25

发明(设计)人：

日向野怜子山崎和彦

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C09D100

IPC分类号：

C01B3312

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

康泉;王珍仙

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-25	公开	公开
2015-03-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101601126971 IPC(主分类):C09D 1/00 专利申请号:2013102213510 申请日:20130605
2017-04-12	授权	授权

共 50 条

[1]

低折射率膜形成用组合物及其制法、低折射率膜的形成法 [P].

日向野怜子 ;

山崎和彦 .

中国专利 :CN105273622B ,2016-01-27

[2]

低折射率膜形成用液体组合物 [P].

日向野怜子 ;

山崎和彦 ;

米泽岳洋 .

中国专利 :CN107207907B ,2017-09-26

[3]

低折射率膜形成用液体组合物及使用该组合物的低折射率膜的形成方法 [P].

日向野怜子 ;

山崎和彦 .

中国专利 :CN110291165A ,2019-09-27

[4]

低折射率膜形成用组合物 [P].

加藤拓 ;

岛田惠 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN104080869B ,2014-10-01

[5]

用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜 [P].

赵振海 ;

魏斯毅 ;

尾崎雅树 .

中国专利 :CN102634277A ,2012-08-15

[6]

低折射率膜形成用固化性组合物、低折射率膜、光学器件及低折射率膜的制造方法 [P].

青山洋平 ;

昆野健理 ;

森莉纱子 .

日本专利 :CN119472166A ,2025-02-18

[7]

低折射率膜形成用组合物、低折射率膜的形成方法以及通过该形成方法而形成的低折射率膜以及抗反射膜 [P].

尾崎祐树 .

中国专利 :CN103403112B ,2013-11-20

[8]

低折射率层形成用涂液、低折射率层及防反射膜 [P].

铃木健弘 .

日本专利 :CN117916634A ,2024-04-19

[9]

低折射率组合物 [P].

K·考塔基斯 ;

M·R·麦克基弗 ;

P·G·贝基亚里安 ;

S·苏布拉莫尼 ;

M·佩特鲁西-萨米贾 .

中国专利 :CN101501130A ,2009-08-05

[10]

低折射率膜、低折射率膜形成用固化性组合物、光学部件及使用其的固态摄像元件 [P].

山本启之 ;

岛田和人 .

中国专利 :CN104641263A ,2015-05-20

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