变倍光学系统、光学装置和变倍光学系统的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380057471.X

申请日：

2013-10-29

公开(公告)号：

CN104769476A

公开(公告)日：

2015-07-08

发明(设计)人：

小滨昭彦幸岛知之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B1520

IPC分类号：

G02B1318 G03B500

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

鲁山;孙志湧

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-08-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101619025194 IPC(主分类):G02B 15/20 专利申请号:201380057471X 申请日:20131029
2017-12-22	授权	授权
2015-07-08	公开	公开

共 50 条

[1]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 ;

铃木刚司 ;

上原健 .

中国专利 :CN107850762B ,2018-03-27

[2]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN107076969A ,2017-08-18

[3]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

小滨昭彦 .

中国专利 :CN104755983A ,2015-07-01

[4]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN106687848A ,2017-05-17

[5]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN114895444A ,2022-08-12

[6]

变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN107076968A ,2017-08-18

[7]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

山本浩史 ;

松尾拓 ;

小滨昭彦 ;

内田健介 .

中国专利 :CN107209349A ,2017-09-26

[8]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN110546544B ,2019-12-06

[9]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN110494786B ,2019-11-22

[10]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

小滨昭彦 ;

山下雅史 .

中国专利 :CN104797969B ,2015-07-22

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