变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780089387.4

申请日：

2017-04-05

公开(公告)号：

CN110546544B

公开(公告)日：

2019-12-06

发明(设计)人：

町田幸介

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B1520

IPC分类号：

G02B1318

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

鲁山;孙志湧

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20170405
2022-03-29	授权	授权
2019-12-06	公开	公开

共 50 条

[1]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN110494786B ,2019-11-22

[2]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN110520777B ,2019-11-29

[3]

变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN110573924B ,2019-12-13

[4]

变倍光学系统、光学装置和用于制造变倍光学系统的方法 [P].

町田幸介 .

中国专利 :CN105452929A ,2016-03-30

[5]

变倍光学系统、光学装置和变倍光学系统的制造方法 [P].

小滨昭彦 ;

幸岛知之 .

中国专利 :CN104769476A ,2015-07-08

[6]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

町田幸介 ;

铃木刚司 ;

上原健 .

中国专利 :CN107850762B ,2018-03-27

[7]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN107076969A ,2017-08-18

[8]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN114895444A ,2022-08-12

[9]

变倍光学系统、光学装置、变倍光学系统的制造方法 [P].

山本浩史 ;

松尾拓 ;

小滨昭彦 ;

内田健介 .

中国专利 :CN107209349A ,2017-09-26

[10]

变倍光学系统、光学装置和变倍光学系统的制造方法 [P].

伊藤智希 .

中国专利 :CN104956248A ,2015-09-30

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