共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201780089365.8
申请日：
2017-04-05
公开(公告)号：
CN110520777B
公开(公告)日：
2019-11-29
发明(设计)人：
町田幸介
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G02B1520
IPC分类号：
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
鲁山;孙志湧
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-12-24 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20170405 |
| 2021-12-10 | 授权 | 授权 |
| 2019-11-29 | 公开 | 公开 |