对准方法和相关联的对准和光刻设备

被引：0

申请号：

CN202080084136.9

申请日：

2020-11-16

公开(公告)号：

CN114846412A

公开(公告)日：

2022-08-02

发明(设计)人：

S·索科洛夫 F·阿尔佩吉安尼塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 S·R·胡伊斯曼

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王益

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20201116
2022-08-02	公开	公开

共 50 条

[1]

对准方法以及相关对准和光刻设备 [P].

F·G·C·比基恩 ;

E·M·赫尔斯埃博 .

中国专利 :CN114830039A ,2022-07-29

[2]

对准方法以及相关的对准和光刻设备 [P].

E·M·赫尔斯埃博 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN115668068A ,2023-01-31

[3]

对准方法以及相关的对准和光刻设备 [P].

N·F·W·蒂森 ;

S·G·J·马斯杰森 .

:CN119487446A ,2025-02-18

[4]

光纤对准监测工具和相关联的光纤对准方法 [P].

金赫 ;

姜珉 .

:CN118119870A ,2024-05-31

[5]

光刻设备和相关联的方法 [P].

M·A·范德克尔克霍夫 ;

R·范德含 ;

D·E·V·范赫斯特尔 ;

弗朗西斯克斯·约翰内斯·约瑟芬·詹森 ;

保罗·亚历山大·维梅伦 ;

M·安格尔 ;

A·J·沃尔夫 ;

M·F·P·斯密特斯 .

:CN121079644A ,2025-12-05

[6]

光刻设备和相关联的方法 [P].

G·C·德弗里斯 ;

S·N·L·多纳斯 ;

弗朗西斯克斯·约翰内斯·约瑟芬·詹森 ;

E·库尔干诺娃 ;

A·J·沃尔夫 ;

T·J·W·巴克 ;

V·D·希尔德布兰德 ;

保罗·亚历山大·维梅伦 ;

M·安格尔 ;

B·A·J·卢蒂克惠斯 ;

R·范德含 ;

J·P·J·范勒比锡格 .

:CN118541640A ,2024-08-23

[7]

对准传感器、光刻设备和对准方法 [P].

A·J·登博夫 ;

S·马蒂杰森 ;

P·蒂内曼斯 .

中国专利 :CN105190446A ,2015-12-23

[8]

用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备 [P].

徐荣伟 .

中国专利 :CN101286010A ,2008-10-15

[9]

光刻设备对准传感器和方法 [P].

S·G·J·马斯杰森 ;

A·J·登博夫 ;

N·潘迪 ;

P·A·J·廷尼曼斯 ;

S·M·怀特 ;

K·S·E·埃克玛 .

中国专利 :CN107924146A ,2018-04-17

[10]

量测方法和相关联的量测和光刻设备 [P].

P·A·J·廷纳曼斯 ;

I·M·P·阿蒂斯 ;

K·巴塔查里亚 ;

R·布林克霍夫 ;

L·J·卡尔塞迈耶尔 ;

S·C·J·A·凯吉 ;

H·V·考克 ;

S·G·J·马西森 ;

H·J·L·梅根斯 ;

S·U·雷曼 .

中国专利 :CN114868084A ,2022-08-05

← 1 2 3 4 5 →