对准方法以及相关对准和光刻设备

被引：0

申请号：

CN202080086073.0

申请日：

2020-11-17

公开(公告)号：

CN114830039A

公开(公告)日：

2022-07-29

发明(设计)人：

F·G·C·比基恩 E·M·赫尔斯埃博

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

胡良均

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-29	公开	公开
2022-12-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20201117

共 50 条

[1]

对准方法以及相关的对准和光刻设备 [P].

E·M·赫尔斯埃博 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN115668068A ,2023-01-31

[2]

对准方法以及相关的对准和光刻设备 [P].

N·F·W·蒂森 ;

S·G·J·马斯杰森 .

:CN119487446A ,2025-02-18

[3]

对准方法和相关联的对准和光刻设备 [P].

S·索科洛夫 ;

F·阿尔佩吉安尼 ;

塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 ;

S·R·胡伊斯曼 .

中国专利 :CN114846412A ,2022-08-02

[4]

对准传感器、光刻设备和对准方法 [P].

A·J·登博夫 ;

S·马蒂杰森 ;

P·蒂内曼斯 .

中国专利 :CN105190446A ,2015-12-23

[5]

光刻设备对准方法 [P].

赵正栋 ;

李运锋 ;

陈小娟 ;

赵新 ;

宋海军 .

中国专利 :CN102692828B ,2012-09-26

[6]

用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备 [P].

徐荣伟 .

中国专利 :CN101286010A ,2008-10-15

[7]

光刻预对准装置及预对准方法、光刻设备 [P].

王刚 ;

黄栋梁 ;

杨思雨 ;

付红艳 .

中国专利 :CN111198483B ,2020-05-26

[8]

对准方法、对准系统及光刻设备 [P].

田润丰 ;

潘炼东 .

中国专利 :CN117742092A ,2024-03-22

[9]

光刻对准标记改善方法及光刻对准标记 [P].

吕其尧 .

中国专利 :CN117631485A ,2024-03-01

[10]

具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法 [P].

F·B·M·凡比尔森 .

中国专利 :CN1797204A ,2006-07-05

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