光刻设备对准方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110074407.5

申请日：

2011-03-25

公开(公告)号：

CN102692828B

公开(公告)日：

2012-09-26

发明(设计)人：

赵正栋李运锋陈小娟赵新宋海军

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人：

王光辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-20	授权	授权
2012-11-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101349724274 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2011100744075 申请日:20110325
2018-04-27	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 9/00 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备（集团）股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东区张江高科技园区张东路1525号
2012-09-26	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻预对准装置及预对准方法、光刻设备 [P].

王刚 ;

黄栋梁 ;

杨思雨 ;

付红艳 .

中国专利 :CN111198483B ,2020-05-26

[2]

预对准系统、预对准方法及光刻设备 [P].

靳力 ;

程建 ;

郑教增 .

中国专利 :CN111381451B ,2020-07-07

[3]

对准方法以及相关对准和光刻设备 [P].

F·G·C·比基恩 ;

E·M·赫尔斯埃博 .

中国专利 :CN114830039A ,2022-07-29

[4]

对准方法、对准系统及光刻设备 [P].

田润丰 ;

潘炼东 .

中国专利 :CN117742092A ,2024-03-22

[5]

用于光刻设备的对准系统及其对准方法和光刻设备 [P].

徐荣伟 .

中国专利 :CN101286010A ,2008-10-15

[6]

对准传感器、光刻设备和对准方法 [P].

A·J·登博夫 ;

S·马蒂杰森 ;

P·蒂内曼斯 .

中国专利 :CN105190446A ,2015-12-23

[7]

对准方法以及相关的对准和光刻设备 [P].

E·M·赫尔斯埃博 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN115668068A ,2023-01-31

[8]

对准方法以及相关的对准和光刻设备 [P].

N·F·W·蒂森 ;

S·G·J·马斯杰森 .

:CN119487446A ,2025-02-18

[9]

一种用于光刻设备的对准标记和对准方法 [P].

杜聚有 ;

宋海军 ;

徐荣伟 .

中国专利 :CN101943865A ,2011-01-12

[10]

一种用于光刻设备的对准装置及对准方法 [P].

周钰颖 ;

陆海亮 .

中国专利 :CN105988309B ,2016-10-05

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