膜形成组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780024402.3

申请日：

2007-07-02

公开(公告)号：

CN101479833B

公开(公告)日：

2009-07-08

发明(设计)人：

森田敏郎

申请人：

申请人地址：

日本国神奈川县

IPC主分类号：

H01L21225

IPC分类号：

C09D17102 C09D18300 H01L21312

代理机构：

深圳新创友知识产权代理有限公司 44223

代理人：

江耀纯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-06-06	授权	授权
2009-09-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-07-08	公开	公开

共 50 条

[1]

膜形成组合物 [P].

森田敏郎 ;

佐藤功 .

中国专利 :CN101346799A ,2009-01-14

[2]

膜形成组合物 [P].

能谷刚 ;

久保雅彦 ;

佐竹昇 ;

野岛由雄 ;

尾崎祐树 ;

冈村聪也 .

中国专利 :CN110461969B ,2019-11-15

[3]

下层膜形成组合物 [P].

冈田悠 ;

牧野岛高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN112513737A ,2021-03-16

[4]

下层膜形成组合物 [P].

冈田悠 ;

牧野岛高史 ;

越后雅敏 .

日本专利 :CN112513737B ,2024-11-15

[5]

被膜形成组合物 [P].

岸克彦 ;

桐野学 .

中国专利 :CN111465666A ,2020-07-28

[6]

使用膜形成组合物的图案形成方法 [P].

山下直纪 ;

石川清 ;

坂本好谦 ;

北条卓马 .

中国专利 :CN101263429B ,2008-09-10

[7]

光学构件形成组合物 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109690361A ,2019-04-26

[8]

偏光层形成组合物 [P].

伊藤潤 ;

菅野裕太 ;

稻見佳代 ;

畑中真 .

中国专利 :CN109153857A ,2019-01-04

[9]

硅前体化合物、包含其的含硅膜形成组合物以及使用含硅膜形成组合物来形成膜的方法 [P].

金炳官 ;

金镇植 ;

刘多顺 .

韩国专利 :CN117940603A ,2024-04-26

[10]

配向层形成组合物 [P].

伊藤潤 ;

菅野裕太 ;

稻見佳代 ;

畑中真 .

中国专利 :CN109154685B ,2019-01-04

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