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具有带有凸起延伸区域的晶体管的设备和形成此类晶体管的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010565294.8
申请日
:
2020-06-19
公开(公告)号
:
CN112133702A
公开(公告)日
:
2020-12-25
发明(设计)人
:
刘海涛
申请人
:
申请人地址
:
美国爱达荷州
IPC主分类号
:
H01L2711517
IPC分类号
:
H01L2711529
H01L2711551
H01L2711563
H01L2711573
H01L2711578
代理机构
:
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
:
王龙
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-25
公开
公开
2021-01-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/11517 申请日:20200619
共 50 条
[1]
晶体管和晶体管的形成方法
[P].
赵猛
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵猛
;
三重野文健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
三重野文健
.
中国专利
:CN103545200B
,2014-01-29
[2]
晶体管和形成晶体管的方法
[P].
M·纳哈尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
M·纳哈尔
;
M·米奇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M·米奇
.
中国专利
:CN114175276A
,2022-03-11
[3]
晶体管和形成晶体管的方法
[P].
M·纳哈尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
M·纳哈尔
;
V·N·安东诺夫
论文数:
0
引用数:
0
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0
V·N·安东诺夫
;
D·F·范
论文数:
0
引用数:
0
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0
D·F·范
;
A·莫巴尔利
论文数:
0
引用数:
0
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0
A·莫巴尔利
.
中国专利
:CN114207834A
,2022-03-18
[4]
晶体管和形成晶体管的方法
[P].
M·纳哈尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
美光科技公司
美光科技公司
M·纳哈尔
;
V·N·安东诺夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
美光科技公司
美光科技公司
V·N·安东诺夫
;
D·F·范
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
美光科技公司
美光科技公司
D·F·范
;
A·莫巴尔利
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
美光科技公司
美光科技公司
A·莫巴尔利
.
美国专利
:CN114207834B
,2025-04-08
[5]
晶体管和晶体管的制造方法
[P].
辻幸洋
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友电气工业株式会社
住友电气工业株式会社
辻幸洋
.
日本专利
:CN118693041A
,2024-09-24
[6]
晶体管的制备方法和晶体管
[P].
熊诗圣
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
张江国家实验室
张江国家实验室
熊诗圣
;
陈佳文
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
张江国家实验室
张江国家实验室
陈佳文
.
中国专利
:CN118782639A
,2024-10-15
[7]
集成晶体管和形成集成晶体管的方法
[P].
今本拓也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
北极星特许集团有限责任公司
北极星特许集团有限责任公司
今本拓也
.
美国专利
:CN112397510B
,2024-04-23
[8]
集成晶体管和形成集成晶体管的方法
[P].
今本拓也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
今本拓也
.
中国专利
:CN112397510A
,2021-02-23
[9]
晶体管及形成晶体管的方法
[P].
福岛洋一
论文数:
0
引用数:
0
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0
福岛洋一
;
今本拓也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
今本拓也
.
中国专利
:CN112397589A
,2021-02-23
[10]
晶体管及形成晶体管的方法
[P].
卡迈勒·M·考尔道
论文数:
0
引用数:
0
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卡迈勒·M·考尔道
;
古尔特杰·S·桑胡
论文数:
0
引用数:
0
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0
古尔特杰·S·桑胡
;
钱德拉·穆利
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
钱德拉·穆利
.
中国专利
:CN106796957B
,2017-05-31
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