学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
一种化学机械抛光后清洗液的应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110461587.6
申请日
:
2021-04-27
公开(公告)号
:
CN113186541B
公开(公告)日
:
2021-07-30
发明(设计)人
:
王溯
马丽
史筱超
何加华
马伟
申请人
:
申请人地址
:
201616 上海市松江区思贤路3600号
IPC主分类号
:
C23G118
IPC分类号
:
C23G120
H01L2102
代理机构
:
上海弼兴律师事务所 31283
代理人
:
王卫彬;陈卓
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-07-30
公开
公开
2021-08-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23G 1/18 申请日:20210427
2022-08-02
授权
授权
共 50 条
[1]
一种化学机械抛光后清洗液
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
何加华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
何加华
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
.
中国专利
:CN113186540B
,2021-07-30
[2]
一种化学机械抛光后清洗液的制备方法
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
;
李健华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李健华
.
中国专利
:CN113151837B
,2021-07-23
[3]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
;
李健华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李健华
;
王亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王亮
.
中国专利
:CN113201742B
,2021-08-03
[4]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
何加华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
何加华
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
;
李健华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李健华
.
中国专利
:CN113249175A
,2021-08-13
[5]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
;
马伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马伟
.
中国专利
:CN113186036A
,2021-07-30
[6]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
马伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马伟
;
何加华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
何加华
.
中国专利
:CN113774391A
,2021-12-10
[7]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
史筱超
.
中国专利
:CN113789519B
,2024-02-02
[8]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
.
中国专利
:CN113789519A
,2021-12-14
[9]
一种化学机械抛光后清洗液
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
;
何加华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
何加华
;
杨跃
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨跃
.
中国专利
:CN113151838B
,2021-07-23
[10]
一种化学机械抛光后清洗液的制备方法
[P].
王溯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王溯
;
马丽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马丽
;
史筱超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
史筱超
;
何加华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
何加华
;
李健华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李健华
;
王真
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王真
.
中国专利
:CN113215584B
,2021-08-06
←
1
2
3
4
5
→