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一种化学机械抛光后清洗液的应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110926048.5
申请日
:
2021-08-12
公开(公告)号
:
CN113774391A
公开(公告)日
:
2021-12-10
发明(设计)人
:
王溯
马丽
马伟
何加华
申请人
:
申请人地址
:
201616 上海市松江区思贤路3600号
IPC主分类号
:
C23G118
IPC分类号
:
C23G120
H01L2102
代理机构
:
上海弼兴律师事务所 31283
代理人
:
王卫彬;陈卓
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23G 1/18 申请日:20210812
2021-12-10
公开
公开
共 50 条
[1]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
论文数:
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0
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
王溯
;
马丽
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
马丽
;
史筱超
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机构:
上海新阳半导体材料股份有限公司
上海新阳半导体材料股份有限公司
史筱超
.
中国专利
:CN113789519B
,2024-02-02
[2]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
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王溯
;
马丽
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马丽
;
史筱超
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史筱超
.
中国专利
:CN113789519A
,2021-12-14
[3]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
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;
马丽
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马丽
;
史筱超
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史筱超
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李健华
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李健华
;
王亮
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王亮
.
中国专利
:CN113201742B
,2021-08-03
[4]
一种化学机械抛光后清洗液及其制备方法
[P].
王溯
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王溯
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马丽
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马丽
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史筱超
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史筱超
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何加华
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何加华
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王亮
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王亮
.
中国专利
:CN113186539B
,2021-07-30
[5]
一种用于化学机械抛光后的清洗液及其制备方法
[P].
王溯
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马丽
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;
何加华
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何加华
.
中国专利
:CN113774392A
,2021-12-10
[6]
一种用于化学机械抛光后的清洗液及其制备方法
[P].
王溯
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马丽
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李健华
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李健华
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王真
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王真
.
中国专利
:CN113774390A
,2021-12-10
[7]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
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王溯
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马丽
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史筱超
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马伟
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马伟
.
中国专利
:CN113186036A
,2021-07-30
[8]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
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马丽
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史筱超
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何加华
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何加华
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马伟
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马伟
.
中国专利
:CN113186541B
,2021-07-30
[9]
一种化学机械抛光后清洗液的应用
[P].
王溯
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王溯
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马丽
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何加华
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史筱超
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史筱超
;
李健华
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李健华
.
中国专利
:CN113249175A
,2021-08-13
[10]
一种化学机械抛光后清洗液
[P].
王溯
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王溯
;
马丽
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史筱超
.
中国专利
:CN113186540B
,2021-07-30
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