一种化学机械抛光后清洗液的应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110926048.5
申请日
2021-08-12
公开(公告)号
CN113774391A
公开(公告)日
2021-12-10
发明(设计)人
王溯 马丽 马伟 何加华
申请人
申请人地址
201616 上海市松江区思贤路3600号
IPC主分类号
C23G118
IPC分类号
C23G120 H01L2102
代理机构
上海弼兴律师事务所 31283
代理人
王卫彬;陈卓
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
史筱超 .
中国专利 :CN113789519B ,2024-02-02
[2]
一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
史筱超 .
中国专利 :CN113789519A ,2021-12-14
[3]
一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
史筱超 ;
李健华 ;
王亮 .
中国专利 :CN113201742B ,2021-08-03
[4]
一种化学机械抛光后清洗液及其制备方法 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
史筱超 ;
何加华 ;
王亮 .
中国专利 :CN113186539B ,2021-07-30
[5]
一种用于化学机械抛光后的清洗液及其制备方法 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
何加华 .
中国专利 :CN113774392A ,2021-12-10
[6]
一种用于化学机械抛光后的清洗液及其制备方法 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
李健华 ;
王真 .
中国专利 :CN113774390A ,2021-12-10
[7]
一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
史筱超 ;
马伟 .
中国专利 :CN113186036A ,2021-07-30
[8]
一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
史筱超 ;
何加华 ;
马伟 .
中国专利 :CN113186541B ,2021-07-30
[9]
一种化学机械抛光后清洗液的应用 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
何加华 ;
史筱超 ;
李健华 .
中国专利 :CN113249175A ,2021-08-13
[10]
一种化学机械抛光后清洗液 [P]. 
王溯 ;
马丽 ;
何加华 ;
史筱超 .
中国专利 :CN113186540B ,2021-07-30