用于生产形貌基板的无掩模光刻方法

被引：0

申请号：

CN202180014861.3

申请日：

2021-01-07

公开(公告)号：

CN115104069A

公开(公告)日：

2022-09-23

发明(设计)人：

徐永安卢多维克·戈代

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-23	公开	公开

共 50 条

[1]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[2]

用于无掩模光刻的方法和系统 [P].

E·J·范沃特 .

中国专利 :CN115039030A ,2022-09-09

[3]

无掩模光刻的剥离方法 [P].

王宏钧 ;

林子钦 ;

郑年富 ;

陈政宏 ;

黄文俊 ;

刘如淦 .

中国专利 :CN102983068B ,2013-03-20

[4]

光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法 [P].

T·亨克尔 ;

R·克勒 ;

C·内尔谢尔 ;

K·伦纳 .

中国专利 :CN1828409A ,2006-09-06

[5]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277A ,2024-07-19

[6]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277B ,2024-12-31

[7]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[8]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

中国专利 :CN112384861A ,2021-02-19

[9]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

美国专利 :CN112384861B ,2024-03-26

[10]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

美国专利 :CN118192175A ,2024-06-14

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