用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980042309.8

申请日：

2019-04-09

公开(公告)号：

CN112384861A

公开(公告)日：

2021-02-19

发明(设计)人：

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜张忠传林仁东顾铮米纳拉德查根·卫斯奴格伦·艾伦·戈麦斯

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-19	公开	公开
2021-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190409

共 50 条

[1]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

美国专利 :CN112384861B ,2024-03-26

[2]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

美国专利 :CN118192175A ,2024-06-14

[3]

用于无掩模光刻的聚焦斑点优化 [P].

P·F·米开罗斯基 .

中国专利 :CN102132215A ,2011-07-20

[4]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[5]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

中国专利 :CN114556220A ,2022-05-27

[6]

用于生产形貌基板的无掩模光刻方法 [P].

徐永安 ;

卢多维克·戈代 .

中国专利 :CN115104069A ,2022-09-23

[7]

用于直接写入的无掩模光刻术的方法和设备 [P].

P·W·H·德贾格 ;

C·A·维索尔伦 ;

E·P·斯马克曼 ;

E·J·范兹维特 ;

W·F·W·马尔库海泽 ;

P·费尔霍夫 ;

R·A·J·范德韦尔 .

中国专利 :CN108700821B ,2018-10-23

[8]

在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法 [P].

托布乔恩·桑德斯特罗姆 ;

汉斯·马丁森 .

中国专利 :CN1922550A ,2007-02-28

[9]

用于直接写入无掩模光刻的设备 [P].

E·P·斯马克曼 ;

C·A·维索尔伦 .

中国专利 :CN109478024B ,2019-03-15

[10]

用于无掩模光刻的动态补偿系统 [P].

A·S·赖弗斯 ;

T·J·特雷威尔 ;

R·H·卡夫尼 ;

J·T·斯图普斯 ;

J·M·科布 .

中国专利 :CN101416113A ,2009-04-22

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