用于无掩模光刻的动态补偿系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780011721.0

申请日：

2007-03-16

公开(公告)号：

CN101416113A

公开(公告)日：

2009-04-22

发明(设计)人：

A·S·赖弗斯 T·J·特雷威尔 R·H·卡夫尼 J·T·斯图普斯 J·M·科布

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

王庆海;陈景峻

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-22	公开	公开
2011-06-01	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101096275307 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2007800117210 公开日:20090422
2009-06-17	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于无掩模光刻的方法和系统 [P].

E·J·范沃特 .

中国专利 :CN115039030A ,2022-09-09

[2]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277A ,2024-07-19

[3]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[4]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277B ,2024-12-31

[5]

用于无掩模光刻的投射光学系统 [P].

斯塔尼斯拉瓦·斯莫诺夫 ;

马克·奥斯克特斯基 .

中国专利 :CN1573572A ,2005-02-02

[6]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[7]

用于直接写入无掩模光刻的设备 [P].

E·P·斯马克曼 ;

C·A·维索尔伦 .

中国专利 :CN109478024B ,2019-03-15

[8]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

中国专利 :CN114556220A ,2022-05-27

[9]

用于无掩模光刻的聚焦斑点优化 [P].

P·F·米开罗斯基 .

中国专利 :CN102132215A ,2011-07-20

[10]

基于纳米透镜的无掩模光刻系统 [P].

阮巍 .

中国专利 :CN101470346A ,2009-07-01

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