用于无掩模光刻的聚焦斑点优化

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980134104.9

申请日：

2009-07-21

公开(公告)号：

CN102132215A

公开(公告)日：

2011-07-20

发明(设计)人：

P·F·米开罗斯基

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

钱慰民

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-09-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101107507716 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801341049 申请日:20090721
2011-07-20	公开	公开
2014-04-30	授权	授权

共 50 条

[1]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[2]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

中国专利 :CN114556220A ,2022-05-27

[3]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[4]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

中国专利 :CN112384861A ,2021-02-19

[5]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

美国专利 :CN112384861B ,2024-03-26

[6]

用于在基板上的无掩模光刻术的实时自动聚焦 [P].

戴安娜·瓦尔维德-帕尼瓜 ;

张忠传 ;

林仁东 ;

顾铮 ;

米纳拉德查根·卫斯奴 ;

格伦·艾伦·戈麦斯 .

美国专利 :CN118192175A ,2024-06-14

[7]

用于无掩模光刻技术的半色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

约瑟夫·R·约翰逊 ;

托马斯·L·莱蒂格 .

中国专利 :CN113454536A ,2021-09-28

[8]

用于无掩模光刻技术的半色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

约瑟夫·R·约翰逊 ;

托马斯·L·莱蒂格 .

中国专利 :CN113454537A ,2021-09-28

[9]

用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统 [P].

阿扎特·拉伯特 ;

谢尔曼·伯特尼 ;

温塞劳·塞布哈尔 .

中国专利 :CN101111850A ,2008-01-23

[10]

用于直接写入无掩模光刻的设备 [P].

E·P·斯马克曼 ;

C·A·维索尔伦 .

中国专利 :CN109478024B ,2019-03-15

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