用于无掩模光刻技术的半色调方案

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080015113.2

申请日：

2020-01-24

公开(公告)号：

CN113454536A

公开(公告)日：

2021-09-28

发明(设计)人：

克里斯多弗·丹尼斯·本彻约瑟夫·R·约翰逊托马斯·L·莱蒂格

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02F113

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;赵静

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-09-28	公开	公开
2022-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200124

共 50 条

[1]

用于无掩模光刻技术的半色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

约瑟夫·R·约翰逊 ;

托马斯·L·莱蒂格 .

中国专利 :CN113454537A ,2021-09-28

[2]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[3]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

中国专利 :CN114556220A ,2022-05-27

[4]

一种无掩模光刻技术的曝光方法 [P].

庞微 .

中国专利 :CN101799635A ,2010-08-11

[5]

用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统 [P].

阿扎特·拉伯特 ;

谢尔曼·伯特尼 ;

温塞劳·塞布哈尔 .

中国专利 :CN101111850A ,2008-01-23

[6]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[7]

基于数字无掩模光刻技术的微透镜及其制作方法 [P].

高益庆 ;

何帅 ;

罗宁宁 ;

龚勇清 ;

陈敏 ;

肖孟超 ;

饶玉芳 .

中国专利 :CN101833124A ,2010-09-15

[8]

一种无掩模光刻系统 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN207965474U ,2018-10-12

[9]

用于无掩模光刻的聚焦斑点优化 [P].

P·F·米开罗斯基 .

中国专利 :CN102132215A ,2011-07-20

[10]

采用数字相移的无掩模光刻方法和装置 [P].

周成刚 ;

程谟嵩 .

中国专利 :CN102117015A ,2011-07-06

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