一种无掩模光刻技术的曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010127390.0

申请日：

2010-03-16

公开(公告)号：

CN101799635A

公开(公告)日：

2010-08-11

发明(设计)人：

庞微

申请人：

申请人地址：

230601 安徽省合肥市经济开发区锦绣大道与习友路交叉口

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112

代理人：

余成俊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-08-11	公开	公开
2014-07-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101703038540 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010101273900 申请公布日:20100811
2012-01-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101163909646 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010101273900 申请日:20100316

共 50 条

[1]

用于无掩模光刻技术的半色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

约瑟夫·R·约翰逊 ;

托马斯·L·莱蒂格 .

中国专利 :CN113454536A ,2021-09-28

[2]

用于无掩模光刻技术的半色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

约瑟夫·R·约翰逊 ;

托马斯·L·莱蒂格 .

中国专利 :CN113454537A ,2021-09-28

[3]

一种无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN108303858A ,2018-07-20

[4]

一种能够高效曝光的无掩模光刻系统 [P].

刘鹏 ;

刘浩然 .

中国专利 :CN112415866B ,2021-02-26

[5]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[6]

一种无掩模光刻系统 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN207965474U ,2018-10-12

[7]

一种高分辨率无掩模光刻系统以及曝光方法 [P].

刘鹏 ;

陈国锋 .

中国专利 :CN112526834B ,2021-03-19

[8]

无掩模光刻方法和无掩模光刻设备 [P].

陈晓西 ;

徐律涵 ;

陈松泽 ;

叶茂 .

中国专利 :CN115453823A ,2022-12-09

[9]

基于随机散射介质的可控亚波长无掩模光刻系统和方法 [P].

刘杰涛 ;

冯蕾 ;

龚昌妹 ;

李慧娟 ;

朱大炜 ;

郭成飞 ;

邵晓鹏 .

中国专利 :CN106200276B ,2016-12-07

[10]

用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统 [P].

阿扎特·拉伯特 ;

谢尔曼·伯特尼 ;

温塞劳·塞布哈尔 .

中国专利 :CN101111850A ,2008-01-23

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