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一种无掩模光刻系统及其曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201810193094.7
申请日：
2018-03-09
公开(公告)号：
CN108303858A
公开(公告)日：
2018-07-20
发明(设计)人：
阮立锋
杨三
汪孝军
申请人：
申请人地址：
528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346
代理人：
石辉
法律状态：
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-05-29 | 专利权质押合同登记的生效、变更及注销 | 专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 登记号:Y2020440000107 登记生效日:20200507 出质人:中山新诺科技股份有限公司 质权人:东莞银行股份有限公司中山分行 发明名称:一种无掩模光刻系统及其曝光方法 申请日:20180309 授权公告日:20191001 |
| 2019-10-01 | 授权 | 授权 |
| 2018-07-20 | 公开 | 公开 |
| 2018-08-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180309 |