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一种紧凑型无掩模光刻系统及其曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110155435.3
申请日：
2021-02-04
公开(公告)号：
CN112965340A
公开(公告)日：
2021-06-15
发明(设计)人：
李春
周思瀚
张思琪
兰长勇
申请人：
申请人地址：
611731 四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
成都虹盛汇泉专利代理有限公司 51268
代理人：
王伟
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-07-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20210204 |
| 2021-06-15 | 公开 | 公开 |