一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810253685.9

申请日：

2018-03-26

公开(公告)号：

CN108303860B

公开(公告)日：

2018-07-20

发明(设计)人：

杨刚吴晨枫郑春红李威威石峰

申请人：

申请人地址：

710071 陕西省西安市太白南路2号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

西安西达专利代理有限责任公司 61202

代理人：

刘华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-08	授权	授权
2018-08-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180326
2018-07-20	公开	公开

共 50 条

[1]

一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法 [P].

杨刚 ;

武洋 ;

吴晨枫 ;

石峰 .

中国专利 :CN106647189B ,2017-05-10

[2]

一种无掩模光刻技术的曝光方法 [P].

庞微 .

中国专利 :CN101799635A ,2010-08-11

[3]

一种无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN108303858A ,2018-07-20

[4]

在光学无掩模光刻中用于曝光图案和模拟掩模的方法 [P].

托布乔恩·桑德斯特罗姆 ;

汉斯·马丁森 .

中国专利 :CN1922550A ,2007-02-28

[5]

一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻曝光系统 [P].

谭翠丽 ;

李福生 ;

韩秋漪 ;

蔡志国 ;

张善端 .

中国专利 :CN217305708U ,2022-08-26

[6]

一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻曝光系统 [P].

谭翠丽 ;

李福生 ;

韩秋漪 ;

蔡志国 ;

张善端 .

中国专利 :CN114296327A ,2022-04-08

[7]

一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法 [P].

刘伟奇 ;

孟祥翔 ;

郭珍珍 ;

柳华 ;

康玉思 ;

魏忠伦 ;

冯睿 .

中国专利 :CN102778819B ,2012-11-14

[8]

一种能够高效曝光的无掩模光刻系统 [P].

刘鹏 ;

刘浩然 .

中国专利 :CN112415866B ,2021-02-26

[9]

一种用于无掩模直写光刻的曝光光源控制系统及其工作方法 [P].

黄胜洲 ;

王雷 ;

刘有余 ;

梁艺 ;

尚正阳 ;

鞠锦勇 ;

苏永生 ;

方明 .

中国专利 :CN110609453A ,2019-12-24

[10]

用于无掩模光刻的方法和系统 [P].

E·J·范沃特 .

中国专利 :CN115039030A ,2022-09-09

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