一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710103930.3

申请日：

2017-02-24

公开(公告)号：

CN106647189B

公开(公告)日：

2017-05-10

发明(设计)人：

杨刚武洋吴晨枫石峰

申请人：

申请人地址：

710071 陕西省西安市太白南路2号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

西安西达专利代理有限责任公司 61202

代理人：

刘华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-10	公开	公开
2019-07-09	授权	授权
2017-06-06	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101724574859 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2017101039303 申请日:20170224

共 50 条

[1]

一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法 [P].

杨刚 ;

吴晨枫 ;

郑春红 ;

李威威 ;

石峰 .

中国专利 :CN108303860B ,2018-07-20

[2]

一种大面积投影光刻系统 [P].

韩太林 ;

王英志 ;

刘红 ;

胡俊 ;

陈玉群 ;

宫玉琳 ;

郎百和 ;

刘迪 .

中国专利 :CN208283721U ,2018-12-25

[3]

一种大面积投影光刻系统 [P].

雷亮 ;

周金运 ;

陈丽 ;

魏威 ;

江文龙 .

中国专利 :CN202133858U ,2012-02-01

[4]

大面积纳米光刻系统及其方法 [P].

浦东林 ;

陈林森 ;

朱鹏飞 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 .

中国专利 :CN111427237B ,2020-07-17

[5]

一种大面积投影光刻系统及其对准方法 [P].

雷亮 ;

周金运 ;

林清华 ;

陈丽 ;

施颖 ;

王新星 .

中国专利 :CN102231049A ,2011-11-02

[6]

一种同步辐射X射线大面积干涉光刻系统 [P].

薛超凡 ;

吴衍青 ;

刘海岗 ;

杨树敏 ;

王连升 ;

赵俊 ;

邰仁忠 .

中国专利 :CN105182701A ,2015-12-23

[7]

一种紧凑型无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

李春 ;

周思瀚 ;

张思琪 ;

兰长勇 .

中国专利 :CN112965340A ,2021-06-15

[8]

一种大面积桥面图像拼接方法 [P].

张巨勇 ;

王云 ;

周洪强 ;

何凯 ;

陈志平 ;

李蓉 .

中国专利 :CN110363706A ,2019-10-22

[9]

用于无掩模光刻的多色调方案 [P].

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ;

托马斯·L·拉伊迪 ;

约瑟夫·R·约翰逊 .

美国专利 :CN114556220B ,2024-07-02

[10]

一种深紫外无掩模数字光刻模组及扫描光刻系统 [P].

吴星涛 ;

谢阿的 ;

杨哲 ;

胡宜楠 .

中国专利 :CN118466136A ,2024-08-09

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