大面积纳米光刻系统及其方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910024456.4

申请日：

2019-01-10

公开(公告)号：

CN111427237B

公开(公告)日：

2020-07-17

发明(设计)人：

浦东林陈林森朱鹏飞朱鸣邵仁锦

申请人：

申请人地址：

215123 江苏省苏州市苏州工业园区新昌路68号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海波拓知识产权代理有限公司 31264

代理人：

周景

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-17	公开	公开
2020-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190110
2021-07-23	授权	授权

共 50 条

[1]

一种大面积纳米压印光刻的装置和方法 [P].

兰红波 ;

丁玉成 .

中国专利 :CN102591143A ,2012-07-18

[2]

一种大面积TFT光刻装置及其光刻方法 [P].

周金运 ;

王新星 ;

雷亮 ;

林清华 ;

裴文彦 .

中国专利 :CN102368138A ,2012-03-07

[3]

一种大面积投影光刻系统及其对准方法 [P].

雷亮 ;

周金运 ;

林清华 ;

陈丽 ;

施颖 ;

王新星 .

中国专利 :CN102231049A ,2011-11-02

[4]

一种大面积投影光刻系统 [P].

韩太林 ;

王英志 ;

刘红 ;

胡俊 ;

陈玉群 ;

宫玉琳 ;

郎百和 ;

刘迪 .

中国专利 :CN208283721U ,2018-12-25

[5]

一种大面积投影光刻系统 [P].

雷亮 ;

周金运 ;

陈丽 ;

魏威 ;

江文龙 .

中国专利 :CN202133858U ,2012-02-01

[6]

一种大面积超分辨光刻装置 [P].

罗先刚 ;

赵承伟 ;

李猛 ;

王长涛 ;

赵泽宇 .

中国专利 :CN108089409A ,2018-05-29

[7]

一种大面积TFT光刻装置 [P].

周金运 ;

王新星 ;

雷亮 ;

林清华 ;

裴文彦 .

中国专利 :CN202306140U ,2012-07-04

[8]

一种大面积纳米结构紫外接触式光刻方法 [P].

段辉高 ;

陈雷 ;

周宇 ;

樊夫 ;

胡跃强 ;

贾红辉 .

中国专利 :CN119002184A ,2024-11-22

[9]

大面积纳米结构阵列的制备方法 [P].

王坚 ;

何增华 ;

王晖 .

中国专利 :CN103540985B ,2014-01-29

[10]

一种气电协同的大面积纳米压印光刻方法 [P].

邵金友 ;

王春慧 ;

田洪淼 ;

李祥明 .

中国专利 :CN105093824B ,2015-11-25

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