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一种用于无掩模扫描光刻的大面积曝光方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710103930.3
申请日：
2017-02-24
公开(公告)号：
CN106647189B
公开(公告)日：
2017-05-10
发明(设计)人：
杨刚
武洋
吴晨枫
石峰
申请人：
申请人地址：
710071 陕西省西安市太白南路2号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
西安西达专利代理有限责任公司 61202
代理人：
刘华
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2017-05-10 | 公开 | 公开 |
| 2019-07-09 | 授权 | 授权 |
| 2017-06-06 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101724574859 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2017101039303 申请日:20170224 |