光刻设备和使用干涉测量和无掩模曝光单元的装置制造法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610169375.6

申请日：

2006-12-19

公开(公告)号：

CN1987660A

公开(公告)日：

2007-06-27

发明(设计)人：

K·Z·特罗斯特 A·J·布利克

申请人：

申请人地址：

荷兰费尔德霍芬

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

张雪梅;梁永

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-06-27	公开	公开
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101075511361 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2006101693756 公开日:20070627
2009-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

无掩模版光刻设备和无掩模版光刻的方法 [P].

杨保平 .

中国专利 :CN115113491A ,2022-09-27

[2]

一种掩模台、曝光装置和光刻设备 [P].

杨若霁 ;

苏同克 .

中国专利 :CN113589652B ,2021-11-02

[3]

曝光装置和光刻设备 [P].

陈恩浩 .

中国专利 :CN120428522A ,2025-08-05

[4]

激光干涉光刻中的曝光光束相位测量方法和光刻系统 [P].

王磊杰 ;

朱煜 ;

张鸣 ;

徐继涛 ;

成荣 ;

李鑫 ;

杨开明 ;

胡金春 .

中国专利 :CN110716397B ,2020-01-21

[5]

曝光装置、基片处理单元和光刻系统及器件制造方法 [P].

藤田浩裕 .

中国专利 :CN1248054C ,2002-01-09

[6]

检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法 [P].

雨果·奥古斯蒂纳斯·约瑟夫·克拉梅尔 .

中国专利 :CN101382737A ,2009-03-11

[7]

检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法 [P].

亚历山大·斯卓艾杰尔 ;

罗纳德·弗朗西斯科斯·赫尔曼·休格斯 .

中国专利 :CN101251718A ,2008-08-27

[8]

重叠测量设备、光刻设备和使用这种重叠测量设备的器件制造方法 [P].

A·邓鲍夫 .

中国专利 :CN102067040A ,2011-05-18

[9]

光刻设备和制造光刻设备的方法 [P].

G·彼得斯 ;

T·W·波莱 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

W·J·博曼 ;

T·M·默德曼 ;

C·M·诺普斯 ;

B·斯米特斯 ;

K·斯蒂芬斯 ;

R·范德哈姆 .

中国专利 :CN106662822A ,2017-05-10

[10]

检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法 [P].

H·克拉莫 ;

P·海恩 .

中国专利 :CN102272678A ,2011-12-07

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