曝光装置和光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510819762.2

申请日：

2025-06-18

公开(公告)号：

CN120428522A

公开(公告)日：

2025-08-05

发明(设计)人：

陈恩浩

申请人：

长鑫新桥存储技术有限公司

申请人地址：

230601 安徽省合肥市经济技术开发区新淮大道2788号

IPC主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F1/38 G03F7/20

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

任晓;蒋雅洁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-22	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/16申请日:20250618
2025-08-05	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻设备和曝光方法 [P].

P·J·克拉默 ;

R·吉利贾姆塞 ;

N·拉默斯 ;

D·M·斯洛特布姆 .

中国专利 :CN106462089B ,2017-02-22

[2]

一种掩模台、曝光装置和光刻设备 [P].

杨若霁 ;

苏同克 .

中国专利 :CN113589652B ,2021-11-02

[3]

一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 [P].

周畅 ;

朱岳彬 ;

李莉 ;

杨玉杰 ;

彭水平 ;

葛黎黎 ;

沈逸豪 .

中国专利 :CN112147849B ,2020-12-29

[4]

光刻曝光装置 [P].

王婷婷 ;

杨晓青 ;

王帆 .

中国专利 :CN105242495A ,2016-01-13

[5]

光刻曝光装置 [P].

洪飞 ;

龚志清 ;

查俊 .

中国专利 :CN217467463U ,2022-09-20

[6]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780A ,2024-11-01

[7]

直写光刻设备和曝光控制方法 [P].

张敏 ;

戴晓霖 ;

武邵东 .

中国专利 :CN118884780B ,2025-09-16

[8]

多频输出光源装置、曝光设备和光刻设备 [P].

王康 .

中国专利 :CN223124386U ,2025-07-18

[9]

晶圆边缘曝光方法、装置和光刻设备 [P].

张弓玉帛 ;

杨慧 ;

张孟龙 ;

钭诗恩 ;

金港杰 ;

付涛 .

中国专利 :CN118981150A ,2024-11-19

[10]

一种用于光刻设备的曝光装置与曝光方法 [P].

许琦欣 ;

李玉龙 ;

王天寅 .

中国专利 :CN105301912A ,2016-02-03

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