一种用于光刻设备的曝光装置与曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410329707.7

申请日：

2014-07-11

公开(公告)号：

CN105301912A

公开(公告)日：

2016-02-03

发明(设计)人：

许琦欣李玉龙王天寅

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-02	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101649082363 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014103297077 申请日:20140711
2018-01-19	授权	授权
2016-02-03	公开	公开
2017-09-26	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101759973754 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014103297077 变更事项:申请人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

共 50 条

[1]

一种曝光装置、光刻设备及曝光方法 [P].

周畅 ;

朱岳彬 ;

李莉 ;

杨玉杰 ;

彭水平 ;

葛黎黎 ;

沈逸豪 .

中国专利 :CN112147849B ,2020-12-29

[2]

用于微光刻的投射曝光方法与投射曝光装置 [P].

A.沃尔夫 .

中国专利 :CN110692019B ,2020-01-14

[3]

光刻曝光装置 [P].

王婷婷 ;

杨晓青 ;

王帆 .

中国专利 :CN105242495A ,2016-01-13

[4]

曝光装置和光刻设备 [P].

陈恩浩 .

中国专利 :CN120428522A ,2025-08-05

[5]

一种用于半导体光刻的曝光系统与曝光方法 [P].

葛亮 ;

杨志勇 .

中国专利 :CN106933049A ,2017-07-07

[6]

曝光装置、曝光方法及光刻方法 [P].

成纹圭 .

中国专利 :CN109426091A ,2019-03-05

[7]

曝光设备与曝光方法 [P].

武田実 ;

古木基裕 ;

今西慎悟 .

中国专利 :CN1174396C ,2001-02-07

[8]

一种曝光方法及其曝光装置 [P].

许琦欣 ;

王帆 .

中国专利 :CN104375384A ,2015-02-25

[9]

曝光装置与曝光方法 [P].

许琦欣 ;

王帆 ;

周畅 .

中国专利 :CN104950587B ,2015-09-30

[10]

一种边缘曝光装置、方法及光刻设备 [P].

田翠侠 ;

夏海 ;

杨思雨 ;

张建新 .

中国专利 :CN114578655A ,2022-06-03

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