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用于微光刻的投射曝光方法与投射曝光装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201880035820.0
申请日：
2018-05-28
公开(公告)号：
CN110692019B
公开(公告)日：
2020-01-14
发明(设计)人：
A.沃尔夫
申请人：
申请人地址：
德国上科亨
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
G02B1322
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王蕊瑞
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-06-26 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180528
2022-07-26 授权 授权
2020-01-14 公开 公开
共 50 条
[1]
投射曝光方法和微光刻的投射曝光设备 [P]. 
M.帕特拉 .
中国专利 :CN109891322A ,2019-06-14
[2]
微光刻投射曝光装置中的组件 [P]. 
J.威斯林 ;
M.埃拉思 ;
A.霍利 ;
S.特罗格 ;
A.沃格勒 .
中国专利 :CN110515275B ,2019-11-29
[3]
微光刻投射曝光装置的光学配置 [P]. 
J.普罗赫诺 ;
D.谢弗 .
中国专利 :CN107077076A ,2017-08-18
[4]
微光刻投射曝光装置的照明系统 [P]. 
M.德冈瑟 ;
D.菲奥尔卡 ;
G-W.齐格勒 .
中国专利 :CN102884480B ,2013-01-16
[5]
微光刻投射曝光装置的照明系统 [P]. 
M.帕特拉 ;
M.施瓦布 .
中国专利 :CN103097955A ,2013-05-08
[6]
用于微光刻投射曝光装置的反射镜 [P]. 
H.M.斯蒂潘 ;
T.格鲁纳 .
德国专利 :CN114008510B ,2024-11-22
[7]
微光刻投射曝光装置中的光学布置 [P]. 
A.舍帕克 ;
H-J.曼 ;
F.艾瑟特 ;
关彦彬 .
中国专利 :CN102640056A ,2012-08-15
[8]
投射镜头、投射曝光装置及投射曝光方法 [P]. 
A·艾普勒 .
德国专利 :CN118591776A ,2024-09-03
[9]
投射镜头、投射曝光装置以及投射曝光方法 [P]. 
A·埃普尔 .
德国专利 :CN118575133A ,2024-08-30
[10]
投射曝光装置 [P]. 
D.H.埃姆 ;
S-W.施米特 ;
O.蒂尔 .
中国专利 :CN103080842A ,2013-05-01
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