微光刻投射曝光装置中的组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910428675.9

申请日：

2019-05-22

公开(公告)号：

CN110515275B

公开(公告)日：

2019-11-29

发明(设计)人：

J.威斯林 M.埃拉思 A.霍利 S.特罗格 A.沃格勒

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B700 G02B7182 F16C3204

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-11-29	公开	公开
2019-12-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190522
2021-11-02	授权	授权

共 50 条

[1]

微光刻投射曝光装置中的光学布置 [P].

A.舍帕克 ;

H-J.曼 ;

F.艾瑟特 ;

关彦彬 .

中国专利 :CN102640056A ,2012-08-15

[2]

用于微光刻的投射曝光方法与投射曝光装置 [P].

A.沃尔夫 .

中国专利 :CN110692019B ,2020-01-14

[3]

微光刻投射曝光装置的照明系统 [P].

M.德冈瑟 ;

D.菲奥尔卡 ;

G-W.齐格勒 .

中国专利 :CN102884480B ,2013-01-16

[4]

微光刻投射曝光装置的光学配置 [P].

J.普罗赫诺 ;

D.谢弗 .

中国专利 :CN107077076A ,2017-08-18

[5]

微光刻投射曝光装置的照明系统 [P].

M.帕特拉 ;

M.施瓦布 .

中国专利 :CN103097955A ,2013-05-08

[6]

特别是在微光刻投射曝光设备中的组件 [P].

S.特勒格尔 ;

T.戈里乌斯 .

中国专利 :CN115516380A ,2022-12-23

[7]

微光刻投射曝光设备的照明系统 [P].

迪特尔.巴德 .

中国专利 :CN102356353A ,2012-02-15

[8]

微光刻投射曝光设备的照明系统 [P].

M.帕特拉 ;

S.比林 ;

M.德冈瑟 ;

F.施莱森纳 ;

M.施瓦布 .

中国专利 :CN102859440A ,2013-01-02

[9]

用于微光刻投射曝光装置的反射镜 [P].

H.M.斯蒂潘 ;

T.格鲁纳 .

德国专利 :CN114008510B ,2024-11-22

[10]

微光刻的投射物镜、具有所述投射物镜的微光刻投射曝光装置、部件的微光刻制造方法以及使用该方法制造的部件 [P].

丹尼尔·克雷默 ;

弗拉迪米尔·卡梅诺夫 ;

迈克尔·托特泽克 ;

阿克赛尔·戈纳迈耶 .

中国专利 :CN101689027A ,2010-03-31

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