微光刻投射曝光装置中的光学布置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080052699.6

申请日：

2010-09-23

公开(公告)号：

CN102640056A

公开(公告)日：

2012-08-15

发明(设计)人：

A.舍帕克 H-J.曼 F.艾瑟特关彦彬

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03B702 G02B7182

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-11-25	授权	授权
2012-08-15	公开	公开
2012-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101332116863 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800526996 申请日:20100923

共 50 条

[1]

微光刻投射曝光装置中的组件 [P].

J.威斯林 ;

M.埃拉思 ;

A.霍利 ;

S.特罗格 ;

A.沃格勒 .

中国专利 :CN110515275B ,2019-11-29

[2]

微光刻投射曝光装置的光学配置 [P].

J.普罗赫诺 ;

D.谢弗 .

中国专利 :CN107077076A ,2017-08-18

[3]

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置 [P].

V.库利特斯基 ;

B.盖尔里奇 ;

S.泽尔特 ;

关彦彬 ;

P.德费尔 ;

A.沃姆布兰德 .

中国专利 :CN105137718A ,2015-12-09

[4]

用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置 [P].

V.库利特斯基 ;

B.盖尔里奇 ;

S.泽尔特 ;

关彦彬 ;

P.德费尔 ;

A.沃姆布兰德 .

中国专利 :CN102549503A ,2012-07-04

[5]

用于微光刻的投射曝光方法与投射曝光装置 [P].

A.沃尔夫 .

中国专利 :CN110692019B ,2020-01-14

[6]

微光刻投射曝光装置的照明系统 [P].

M.德冈瑟 ;

D.菲奥尔卡 ;

G-W.齐格勒 .

中国专利 :CN102884480B ,2013-01-16

[7]

微光刻投射曝光装置的照明系统 [P].

M.帕特拉 ;

M.施瓦布 .

中国专利 :CN103097955A ,2013-05-08

[8]

微光刻投射曝光设备的照明系统 [P].

迪特尔.巴德 .

中国专利 :CN102356353A ,2012-02-15

[9]

微光刻投射曝光设备的照明系统 [P].

M.帕特拉 ;

S.比林 ;

M.德冈瑟 ;

F.施莱森纳 ;

M.施瓦布 .

中国专利 :CN102859440A ,2013-01-02

[10]

用于微光刻投射曝光装置的反射镜 [P].

H.M.斯蒂潘 ;

T.格鲁纳 .

德国专利 :CN114008510B ,2024-11-22

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