投射曝光方法和微光刻的投射曝光设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780065249.2

申请日：

2017-08-24

公开(公告)号：

CN109891322A

公开(公告)日：

2019-06-14

发明(设计)人：

M.帕特拉

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F7095

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-06-14	公开	公开
2021-07-27	授权	授权
2019-10-18	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170824

共 50 条

[1]

投射曝光方法和微光刻的投射曝光设备 [P].

B.比特纳 ;

N.瓦布拉 ;

M.冯霍登伯格 ;

S.施奈德 .

中国专利 :CN105637420A ,2016-06-01

[2]

微光刻投射曝光设备和微光刻曝光方法 [P].

J.赫茨勒 ;

S.布雷迪斯特尔 ;

T.格鲁纳 ;

J.哈特杰斯 ;

M.施瓦布 ;

A.沃尔夫 .

中国专利 :CN103140805B ,2013-06-05

[3]

投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法 [P].

S.安德烈 ;

D.戈尔德 ;

T.格鲁纳 ;

J.劳夫 ;

N.瓦布拉 ;

R.舍梅 ;

S.施耐德 .

中国专利 :CN107077074A ,2017-08-18

[4]

投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法 [P].

S.安德烈 ;

D.戈尔德 ;

T.格鲁纳 ;

J.劳夫 ;

N.瓦布拉 ;

R.舍梅 ;

S.施耐德 .

中国专利 :CN111505909A ,2020-08-07

[5]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙.布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安.巴赫 ;

丹尼尔.本兹 ;

塞韦林.沃尔迪斯 ;

阿明.沃伯 .

中国专利 :CN104536271A ,2015-04-22

[6]

微光刻投射曝光设备 [P].

萨沙.布莱迪斯特尔 ;

关彦彬 ;

弗洛里安.巴赫 ;

丹尼尔.本兹 ;

塞韦林.沃尔迪斯 ;

阿明.沃伯 .

中国专利 :CN108803249A ,2018-11-13

[7]

微光刻投射曝光设备 [P].

迈克尔.莱 ;

马库斯.德冈瑟 ;

迈克尔.帕特拉 ;

约翰尼斯.万格勒 ;

曼弗雷德.莫尔 ;

达米安.菲奥尔卡 ;

冈杜拉.韦斯 .

中国专利 :CN103558738A ,2014-02-05

[8]

微光刻投射曝光设备 [P].

B.克莱因 .

中国专利 :CN111487848A ,2020-08-04

[9]

微光刻投射曝光设备 [P].

奥雷利安·多多克 ;

萨沙·布莱迪斯特尔 ;

奥拉夫·康拉迪 ;

阿里夫·卡齐 .

中国专利 :CN101821678B ,2010-09-01

[10]

微光刻投射曝光设备 [P].

马库斯.德冈瑟 ;

迈克尔.帕特拉 ;

安德拉斯.G.梅杰 .

中国专利 :CN102349026A ,2012-02-08

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