光刻曝光装置

被引：0

申请号：

CN202221021385.6

申请日：

2022-04-29

公开(公告)号：

CN217467463U

公开(公告)日：

2022-09-20

发明(设计)人：

洪飞龚志清查俊

申请人：

申请人地址：

215200 江苏省苏州市吴江区芦荡路228号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京金智普华知识产权代理有限公司 11401

代理人：

徐会娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-20	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻曝光装置 [P].

王婷婷 ;

杨晓青 ;

王帆 .

中国专利 :CN105242495A ,2016-01-13

[2]

光刻曝光设备及光刻曝光方法 [P].

刘必秋 .

中国专利 :CN108628109A ,2018-10-09

[3]

光刻曝光机及光刻曝光方法 [P].

张辰明 ;

刘志成 ;

杨要华 ;

胡骏 .

中国专利 :CN102466978B ,2012-05-23

[4]

曝光装置、曝光方法及光刻方法 [P].

成纹圭 .

中国专利 :CN109426091A ,2019-03-05

[5]

曝光设备 [P].

洪飞 ;

查俊 ;

龚志清 ;

郁操 .

中国专利 :CN115043168A ,2022-09-13

[6]

光刻胶曝光装置 [P].

闫晓剑 ;

田朝勇 .

中国专利 :CN103576469A ,2014-02-12

[7]

直写式光刻曝光装置 [P].

刘柱 ;

请求不公布姓名 ;

相入伟 ;

金侃 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN221827185U ,2024-10-11

[8]

曝光装置和光刻设备 [P].

陈恩浩 .

中国专利 :CN120428522A ,2025-08-05

[9]

光刻装置及其曝光方法 [P].

陈力钧 ;

宋海生 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN111736435A ,2020-10-02

[10]

同步定位光刻曝光装置 [P].

陈涛 ;

孙立宁 ;

潘明强 ;

刘吉柱 ;

王阳俊 ;

陈立国 ;

汝长海 ;

任子武 ;

郭浩 ;

厉茂海 ;

陈国栋 ;

林锐 .

中国专利 :CN202995256U ,2013-06-12

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